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反滲透(tòu)膜的汙染情況以及對應清洗藥品

汙(wū)染(rǎn)物質和清洗藥品 汙染物 常規化學清洗 增強(qiáng)化學(xué)清洗 碳酸鈣結垢 2.0wt%檸檬酸,pH4.0 (用氨水體調節pH值) HCl,pH2.5 硫酸鈣、硫酸(suān)鋇、 硫酸鍶結垢 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA(pH10) HCl,pH2.5 金屬氧化物、 金屬氫氧(yǎng)化物(wù) 2.0wt%檸檬酸,pH4.0 (用氨水體調節pH值) 1.0wt%的亞硫酸氫鈉,pH11.5 (Fe、Mn采用0.2wt%的草(cǎo)酸,pH2) 無機膠體汙(wū)染 2.0wt%檸檬酸(suān),pH4.0 (用氨(ān)水體調節(jiē)pH值) HCl,pH2.5 無機(jī)有機 混合膠體汙染(rǎn) 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA(pH10) 0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS,pH11.5 矽 無 0.1wt%NaOH,pH11.5 生物汙染 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA(pH10) 2.0wt%STPP和0.25wt%Na-DDBS,pH10 或0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS,pH11.5 溶解有機汙染物 2.0wt%STPP和0.8 wt%Na-EDTA(pH10) 2.0wt%STPP和0.25wt%Na-DDBS,pH10 或0.1wt%NaOH和0.03wt%SDS,pH11.5 注:HCl——鹽酸; STPP——三聚磷酸鈉; Na-EDTA——乙(yǐ)二胺四(sì)乙(yǐ)酸鈉; NaOH——氫氧化(huà)鈉; SDS——十(shí)二烷(wán)基磺酸鈉; Na-DDBS——十二烷基笨磺酸鈉。


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