一、行業簡介
        半導體、集成電路芯片及（jí）封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模（mó）集成電路需用（yòng）大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越（yuè）窄，對水質的要求也越高。目前我國電（diàn）子工業部把電子級水質技術分為五個行（háng）業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質（zhì）。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明（míng）電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化（huà）工工藝（yì）用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半（bàn）導體晶片切割製造（zào）、半（bàn）導體芯片、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃（lí）、顯像管、線路板（bǎn）、光通信、電腦元件（jiàn）、電容器潔淨產品及（jí）各種元器件等（děng）生產工藝用純水。
三、工（gōng）藝簡介（jiè）
1、係統模塊化設計，共（gòng）分（fèn）四部分：預處理係統、反滲透（tòu）係統、EDI係統（tǒng）、終（zhōng）端供水係統。
2、預處理係統主要用來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物，保（bǎo）證產水符合（hé）反滲透係統的進水水質要求。
3、反滲透係統主要用來去除（chú）原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源等（děng），保證產水符合EDI係統進水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反（fǎn）滲透產水進行進一步脫除溶解（jiě）性的小分（fèn）子鹽類物質，產水達到電阻率（lǜ）達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水（shuǐ）係統主要是用來（lái）將合格（gé）水輸送至（zhì）用水點，輸送過程（chéng）中對EDI產生進行最後的離子交（jiāo）換（huàn）脫鹽（yán），使得產水達到電阻率達到（dào）18MΩ.cm以（yǐ）上（shàng）。
6、整個係（xì）統進（jìn）行集中控製。

四、技術特色
1、係統（tǒng）模塊（kuài）化設計，占地麵積小（xiǎo），操作維護方便（biàn），安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係統實（shí）現全自動化運行，並且（qiě）手動與自動自由（yóu）切換。
3、設備產水水質穩定，運（yùn）行連續穩定。
4、係（xì）統工藝先進，無需化學藥（yào）品再生，無危害性廢液排放。
5、係統節水（shuǐ）率高，係（xì）統回收率在75%以上（shàng）。
6、關鍵部位采用在線儀（yí）表監測，適時數據上傳。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水符合（hé）《電（diàn）子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業（yè）純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。